There is more than one type of neural net uses to classify complex pattern (face), and it is represent very suitable technique for face localization. We present backpropagation neural network-based face localization ...

تعد الأرقام القیاسیة لأسعار المستهلك واحدة مـن أقـدم المؤشـرات الاقتصـادیة وأوسـعها انتشـارا, إذ أنهـا تقـیس التغیـرات الصافیة التي تطرأ على أسعار السلع والخدمات الاستهلاكیة التي تشتریها فئة من المستهلكین خلال فترة زمنیـة ...

ـــــرت أغشـــــیة اوكســـــید الخارصـــــین النقیـــــة والمشـــــوبة بـــــالكلور، الفلـــــور، البـــــروم والیـــــود بنســـــب تشـــــویب مختلفـــــة ُ ح (0.03,0.05,0.07,0.09)وباسـتخدام طریقـة الترسـیب الكیمــیائي ...

حضـرت أغشـیة 2(x1-SexTe(CuInالرقیقـة علـى قواعـد مـن الزجـاج بأسـتخدام تقنیـة التبخیـر الحـراري فـي الفـراغ بسـمك(nm250(، تـم دراسـة تـأثیر التشـعیع بأشـعة كامـا مـن المصـدر المشـع (137Cs(علـى الثوابـت البصـریة الآتیـة ...

اظهرت الدراسة في وحدة المخازن المبردة التابعة لقسم البستنة ومختبرات قسم وقایة النبات في كلیة الزراعة – جامعة بغداد للموسمین 2004 و 2005 ، و عزل الاجناس Alternaria و Aspergillus و Penicillium و Cylindrocarpon و Rhizopus ...

هــدفت الدراســة الكشــف عــن الإصــابة بالطفیلیــات الخارجیــة مــن خــلال فحــص 2508 راســاً مــن الاغنــام مذبوحــة فــي مجزرتي الشعلة والكرخ ومفحوصة في اماكن بیع الحیوانات في الشعلة وفي حقول أهلیة متفرقة في مدینة بغداد ...

یشتمل هذا البحث على تحضیر ودراسة الشبكات المتداخلة لراتنج الأیبوكسي مع حامض الأمیك(PMA ) ( N-فنیل حامض المالیمیك)، إذ حضر(PMA (بعد تشخیصه باستخدام طیف الأشعة تحت الحمراء .كما حضرت منه شبكات متداخلة مع الأیبوكسي بنسبة ...

تعتبر أشجار الیوكالبتوس camadulensis Eucalyptus من أشجار الغابات المنتشرة في أغلب أنحاء العراق موطنها الأصلي استرالیا . تحتوي أشجار الیوكالبتوس عامة على نسب متباینة من الزیوت الأساسیة المهمة التي تستخدم لأغراض انتاج ...

Stability of an approximation of a minimum for a control problem of Bolza is investigated. The dual dynamic programming method is used. Anε -value function and a dual ε -value function are defined. Several properties of ...

These papers study the operation of etching poly-silicon wafer by using CF3Br plasma under condition 40mT, 1500 volt. Obtained on directional etching (anisotropic etching) with less selectivity, the directional etching ...